同兴达获得发明专利授权：“一种背光间隙的测量方法”

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证券之星消息，根据企查查数据显示同兴达（002845）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种背光间隙的测量方法”，专利申请号为CN202111327795.3，授权日为2024年7月16日。

专利摘要：本发明公开一种背光间隙的测量方法，包括以下步骤：步骤1：提供一背光模组，确定所述背光模组的检测区域；步骤2：将所述检测区域处的遮光胶去除，保留非检测区域处的遮光胶，使得所述检测区域处露出上增光片与胶框，测量所述上增光片与所述胶框膜片槽的间隙；步骤3：将所述检测区域处的上增光片去除，露出下增光片，测量所述下增光片与所述胶框膜片槽的间隙；步骤4：将所述检测区域处的下增光片去除，露出扩散片，测量所述扩散片与所述胶框膜片槽的间隙。本发明在测量过程中只撕离部分的遮光胶，使得还有部分的遮光胶可以用于固定光学膜片组件，使得测量过程中，光学膜片组件可以与遮光胶可以保持相对的固定，因此可以保证测量的准确性。

今年以来同兴达新获得专利授权42个，较去年同期减少了38.24%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了3.44亿元，同比减16.09%。

数据来源：企查查

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